薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應該考慮在泵的進氣口管路上安裝輔助設備，如冷凝器、除塵器等。

2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。第三，查看漏孔的巨細，形狀、方位，漏氣的速度，制備出可處理方案并施行。

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蒸發(fā)鍍膜

一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4. 真空度

5. 鍍膜時間，厚度大小

組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

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真空鍍膜機原理

真空鍍膜機是目前制作真空條件應用為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。在離子鍍技術中，由于給工件施加負偏壓，可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織，因此，可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。本公司專業(yè)從事真空鍍膜設備的研發(fā)與生產擁有經驗豐富的技術團隊及的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。

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真空鍍膜機檢漏

要承認漏氣究竟的虛漏仍是實漏，因為工件資料加熱后都會在不同程度上發(fā)生氣體，有也許誤以為是從外部流進的氣體，這即是虛漏，要掃除這種狀況。

第二，測驗好真空室的氣體密封功能，確保氣密功能符合要求。

第三，查看漏孔的巨細，形狀、方位，漏氣的速度，制備出可處理方案并施行。

第四，斷定檢查儀器的1小可檢漏率和檢漏靈敏性，以1大規(guī)模的檢查出漏氣狀況，防止一些漏孔被疏忽，進步檢漏的準確性。

第五，掌握檢漏儀器的反應時刻和消除時刻，把時刻掌握好，確保檢漏儀器作業(yè)到位，時刻少了，檢漏作用必定差，時刻長了，糟蹋檢漏氣體和人工電費。

第六，還要防止漏孔阻塞，有時因為操作失誤，檢漏過程中，一些塵?；蛞后w等把漏孔阻塞了，以為在該方位沒有漏孔，但當這些阻塞物因為內外壓強區(qū)別進步或別的緣由使漏孔不堵了，那漏氣仍是存在的。